沉积三层氮化硅薄膜的新工艺

　　多年来，晶体硅太阳电池以其较高的性价比占领了光伏市场约90% 的份额。但是裸硅片的反射率较高，当太阳光照射到太阳能电池表面时，反射率高达33%,光损失较大，导致太阳能电池产生的载流子减少，引起电池效率下降。因此减少光在电池表面的反射就变得很有必要，根据薄膜干涉原理，在电池表面镀一层或多层薄膜，可以有效减少光的反射，这种膜属于减反膜[1,2].氮化硅薄膜具有高的化学稳定性、高电阻率、绝缘性好、硬度高、光学性能良好等特性，在半导体器件、微电子工业、光电子工业、太阳能电池等方面具有广泛的应用。近年来，氮化硅薄膜作为太阳能电池的减反射膜越来越引起人们的关注。作为减反射膜，氮化硅薄膜具有良好的光学性能[3].如果将氮化硅薄膜设计成不同厚度的多层膜，合理匹配各层之间的厚度和折射率，就可以拓展电池对光的吸收，进一步降低硅表面的光反射，还可以使电池的转换效率明显提高，同时也可以提高氮化硅膜对电池的钝化作用。

　　目前现代规模化生产晶体硅太阳电池都用制作双层氮化硅薄膜，可以一定程度的扩大薄膜的反射带增加光吸收，但也存在一些问题，如钝化效果差、短波光吸收较少等。所以，关于沉积三层氮化硅薄膜的研究逐渐展开，实验证明，沉积三层氮化硅薄膜对提高电池的减反射和转换效率都非常明显。

　　目前，氮化硅薄膜的主要制备技术有等离子增强化学气相沉积法（PECVD）[1][4,9]、螺旋波等离子体增强化学气相沉积（HW P-CVD）[10]、低压化学气相沉积 （LPCVD），射频等离子体增强化学气相沉积（RF-PECVD），电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积 （E-CR-PECVD） 等[3].其中，等离子增强化学气相沉积法（PECVD） 由于在制备大面积、高均匀度薄膜时所呈现出来的优势而成为制备氮化硅薄膜的主要方法之一[10].

　　1 三层氮化硅薄膜的作用和结构

　　研究生产高效多晶硅太阳电池沉积三层氮化硅薄膜的工艺，首先应从其光学原理出发。由于在太阳电池表面沉积薄膜是要能起到表面减反射的作用，所以必须要使多层膜满足折射率n的关系：n1>n2>n3在太阳电池表面沉积的三层氮化硅薄膜的作用分别为：第一层氮化硅薄膜要沉积在电池上表面，这层薄膜的主要作用是钝化硅片，提高电池的少子寿命，所以薄膜的折射率要大，致密性要好。

　　第二层氮化硅膜是缓冲层，覆盖在第一层膜的上表面。这层膜的作用是尽可能降低因第一层膜的高折射率而产生的高消光系数，可以削弱n1和n3界面间的反射。因第一层膜的折射率n1远大于第三层膜的折射率n3,所以中间要增加一个折射缓变层。

　　第三层膜氮化硅膜沉积在第二层膜的上表面。使三层氮化硅膜整体的等效厚度及折射率满足晶体硅电池的减反射条件，要同时尽可能降低薄膜间的消光系数，使更多的光透过该层进入下面的各层中。

　　2 沉积三层氮化硅薄膜的新工艺---间断性沉积

　　三层氮化硅薄膜的互补作用对电池起到很好的减反射效果，对提高电池的减反射和转换效率都非常明显，存在最大问题是大约有五分之一的电池表面整体颜色不均匀，大大降低电池的合格率。为使三层氮化硅薄膜技术能在产业化应用，必须要解决电池表面色差的问题，保证产品的合格率和优等品率。

　　2.1 间断性沉积三层氮化硅薄膜用等离子增强化学气相沉积法 （PECVD） 沉积三层氮化硅薄膜，一般可使用氨气（N H3） 和硅烷（SiH4） 作为等离子气体源。辉光放电将氨气和硅烷电离，二者发生反应，生成氮化硅薄膜沉积在冶金多晶硅电池表面，反应公式：【1】

　　制备的氮化硅薄膜主要含有Si、N、H 等三种元素。其中氨气与硅烷的流量比决定了薄膜中三种元素的含量，对每层氮化硅薄膜的折射率和钝化效果影响都很大；而各层薄膜的沉积时间对膜厚和折射率影响也非常大[11].

　　如果将一般的连续沉积三层氮化硅薄膜，改为间断性沉积三层氮化硅薄膜技术，即：沉积每层薄膜后，要有一定停顿时间，让真空沉积室中剩余的气体基本都能沉积，可使薄膜结构趋于完整。同时，反应会产生大量的氢元素，可与多晶硅电池表面和体内的悬挂键、缺陷结合，形成电中性复合体，降低电池的复合中心，提高电池的少子寿命，在一定程度上降低硅中晶界的活性称为氢钝化。良好的氢钝化可增大电池的开路电压和短路电流，提高电池的转换效率。

　　2.2 调整沉积薄膜反应气体的流量比根据每层氮化硅薄膜的作用，在沉积各层薄膜过程，仔细调整反应气体（氨气，硅烷） 的比例。第一层氮化硅是致密性要求很高，所以要加大硅烷气体的流量，反应可以产生充分的Si,使得此层薄膜能起到良好的表面钝化效果。

　　经测试发现，这种方法明显改善了原来电池表面氮化硅膜色差较严重的问题，生产的电池表面色差从20% 降到3% 以下；电池平均转换效率从17.01% 提高至17.40% ;而三层氮化硅薄膜电池整体反射率要比双层氮化硅薄膜的低，在650nm 中心波长处最低为0.621% ,短波范围，三层氮化硅薄膜电池的表面反射率有很大的改善[7].

　　3 结语

　　利用等离子增强化学气相沉积法在晶体硅上沉积的三层氮化硅薄膜，相比目前常见的双层氮化硅薄膜，其三层薄膜的互补作用对晶体硅太阳能电池起到很好的减反射效果，明显改善了电池对入射光的吸收。

　　而进一步优化工艺，将三层薄膜的连续沉积薄膜改为间断性沉积，通过仔细调整沉积时间和反应气体的流量比，可以使氮化硅薄膜的致密性大大提高，且钝化效果良好，明显提高了多晶硅太阳电池的少子寿命和降低电池的反向漏电流等性能，且极大的改善了原本工艺中出现的电池表面氮化硅膜色差较严重的问题。

　　[参考文献]

　　[1] 徐飞，陈德爽，陈肖等。晶体硅太阳能电池三层减反膜研究[C].第 12 届中国光伏大会暨国际光伏展览会论文集，2012.
　　[2] 马丁·格林，狄大卫等。太阳能电池工作原理，技术和系统应用[M].上海：上海交通大学出版社，2010.
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　　[4] 孙占峰，王伟。三层氮化硅减反射膜的工艺研究[J].科技资讯，2014.
　　[5] 全成。太阳能电池氮化硅薄膜制备与钝化研究[J].电子科技大学，2012.
　　[6] 黄卫东，王旭洪，盛玫等。 有机发光器件的低温氮化硅薄膜封装[J].功能材料与器件学报，2003.
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　　[10] 于威，刘丽辉，侯海虹等。螺旋波等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜[J].物理学报，2003.
　　[11] 屈盛，毛和璜，韩增华等。硅烷氨气比对 PECVD 氮化硅薄膜性能的影响[J].阳光能源，2011.